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PI 膜石墨化爐

發布時間:2020-06-19󰇰瀏覽次數:584
PI 膜石墨化爐

PI 膜石墨化爐是我廠工程技術人員消化和吸收國外***的測溫、控溫技術、智能化、新材料技術和爐膛設計技術,推出的一項特別碳素材料行業(工藝允許也可適用于其他行業)的高性能智能化電爐。


●用途:    

應用碳素材料的燒結,PI 膜石墨化,導熱材料石墨化、碳纖維繩的燒結,碳纖維燈絲的燒結石墨化及其它可在碳環境下燒結和熔煉的材料。


●特點:
3000℃以內超高溫爐體,可完全滿足各種材料的燒結和石墨化。
采用數顯化智能控溫系統,全自動高精度完成測溫控溫過程,系統可按給定升溫曲線升溫,并可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線。
采用內循環純水冷卻系統;數字式流量監控系統,爐體轉換采用高性能中頻接觸器;全面的PLC水、電、氣自動控制和保護系統。

●主要技術參數:
**使用溫度:3000℃
高溫區容積:0.01m3、0.02m3、0.03m3、0.05m3、 0.1m3、 0.15m3、0.2m3 、0.3m3 、0.5m3、0.8m3
爐內工作氣氛:真空、氫氣、氮氣、惰性氣體等
溫度均勻度:≤±10℃
溫度測量:遠紅外線光學測溫
測溫范圍1000~3000℃或600~3100℃
測溫精度:0.2~0.75%
溫度控制:程序控制和手動控制; 控溫精度:±1℃
極限升溫速度:50℃/分鐘(空爐,視高溫區容積和爐膛結構而定.

 

 

參數名稱 

單位

KGPS -160

KGPS -200

KGPS -250

KGPS -250

KGPS -250

坩堝有效容積
  (直徑×高)

mm

Φ200×300

Φ350*600

Φ400*1000 

Φ500×1000

Φ600×1000

中頻電源功率

Kw

160

200

250

250

250

中頻電源頻率

Hz

4000

4000

2500

2500

2500

**工作溫度

℃ 

3000

3000

3000

3000

3000

極限真空度

Pa

1.2×10-1 

1.2×10-1 

1.2×10-1 

1.2×10-1 

1.2×10-1 

壓升率

Pa/h

2

2

2

2

2

恒溫區溫差

℃ 

±10

±10

±10

±10

±10

 


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